EV-400高真空金属有机蒸发镀膜机

真空腔室：前开门真空腔体，方便取放基片、更换钨舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护保养；

真空系统：国产分子泵作为主抽泵，真空**限优于5.0✕10-5Pa（经烘烤除气后）；另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵，真空**限优于3.0✕10-6Pa（经烘烤除气后）；

真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；

蒸发源：4～6组欧美技术金属或是有机束源炉蒸发源可选，多源共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定；

蒸发电源：真空专业蒸发电源，恒流/恒功率控制。

电流、功率可预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能；

基片台：**120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～20r/min连续可调；

基片台功能：衬底可选择加热（室温～300℃可调可控）或水冷，基片台可选升降，源基距**350mm；

溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选；

膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪；

可镀材料：可沉积金属（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金属、化合物（MoO3、LiF等）及有机材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；

控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。